產品詳情
        • 產品名稱:鹵素燈RTP退火爐

        • 產品型號:CY-RTP1000-Φ150-T
        • 產品廠商:成越科儀
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        鹵素燈RTP退火爐是一款6寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現真正的基底溫度測量,不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及知名科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇
        詳情介紹:

        鹵素燈RTP退火爐是一款6寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現真正的基底溫度測量,不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及知名科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇.


        鹵素燈RTP退火爐技術特色:

         ? 真正的基片溫度測量,無需傳統的溫度補償

        ? 紅外鹵素管燈加熱

        ? 極其優異的加熱溫度**性與均勻性

        ? 快速數字PID溫度控制

        ? 不銹鋼冷壁真空腔室

        ? 系統穩定性好

        ? 結構緊湊,小型桌面系統

        ? 帶觸摸屏的PC控制

        ? 兼容常壓和真空環境,真空度標準值為5×10-3Torr,采用二級分子泵真空度低至5×10-6Torr

        ? *高3路氣體(MFC控制)

        ? 沒有交叉污染,沒有金屬污染

        真實基底溫度測量技術介紹:



        如上圖,由陣列式鹵素燈輻射出熱量經過石英窗口到達樣品表面,樣品被加熱,傳統的快速退火爐采用熱電偶進行測量基片溫度,由于熱電偶與基片有一定距離,測量的不是基片真實的溫度,必須進行溫度補償。

         

          鹵素燈RTP退火爐采用專用的一根片狀的Real T/C KIT進行測溫,如上圖,接觸測溫儀與片狀Real T/C KIT相連,工作時片狀Real T/C KIT位于樣品上方很近的位置,陣列式鹵素燈輻射出熱量經過石英窗口到達樣品表面,樣品被加熱,片狀Real T/C KIT同時被加熱,由于基片與Real T/C KIT很近,它們之間也會進行熱量傳遞,并很快達到熱平衡,所以片狀Real T/C KIT測量的溫度就無限接近基片真實的溫度,從而實現基片溫度的真實測量。

        技術參數:

        產品名稱

        鹵素燈RTP退火爐

        產品型號

        CY-RTP1000-Φ150-T

        基片尺寸

        6英寸

        基片基座

        石英針(可選配SiC涂層石墨基座)

        溫度范圍

        150-1250

        加熱速率

        10-150/S

        溫度均勻性

        ≤±1.5% (@800, Silicon wafer)

        ≤±1.0% (@800, Substrate on SiC coated graphite susceptor)

        溫度控制精度

        ±3

        溫度重復性

        ±3

        真空度

        5.0E-3 Torr / 5.0E-6 Torr

        氣路供應

        標準1N2吹掃及冷卻氣路,由MFC控制(*多可選3路)

        退火持續時間

        35min@1250

        溫度控制

        快速數字PID控制

        尺  寸

        870mm*650mm*620mm


        基片類型:

        ? Silicon wafers硅片

        ? Compound semiconductor wafers化合物半導體基片

        ? GaN/Sapphire wafers for LEDs 用于LEDGaN/藍寶石基片

        ? Silicon carbide wafers碳化硅基片

        ? Poly silicon wafers for solar cells用于太陽能電池的多晶硅基片

        ? Glass substrates玻璃基片

        ? Metals金屬

        ? Polymers聚合物

        ? Graphite and silicon carbide susceptors石墨和鍍碳化硅的石墨基座

        鹵素燈RTP退火爐應用領域:

        離子注入/接觸退火,快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN),可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用,SiAu, SiAl, SiMo合金化,低介電材料,晶體化,致密化,太陽能電池片鍵合等



        豫公網安備 41019702002438號

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