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        PECVD系統(tǒng)應(yīng)用的說明

        日期:2025-06-03 19:45
        瀏覽次數(shù):1294
        摘要:
         PECVD主要是對半導(dǎo)體材料硅的濺射。

        PECVD系統(tǒng)應(yīng)用:

            1. 廣泛應(yīng)用于MEMS、先進封裝、功率半導(dǎo)體、LED制造、RF集成電路等領(lǐng)域

            2. 放射方式對稱工藝氣體顯著提高晶圓片內(nèi)均勻性(WIW)

            3. 多達10路氣體管路,可選on-board液體輸送系統(tǒng)

            4. 復(fù)合頻率等離子體能力調(diào)節(jié)應(yīng)力

            5. 有源冷卻平臺應(yīng)用在關(guān)鍵,低溫[小于175°C]封裝工藝

            6. 可選敏感的de-gassing襯底材料增加單/多晶圓預(yù)加熱腔室

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