- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
氧分析系統(tǒng)應(yīng)用場合：
氧分析系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于石油化工、化肥生產(chǎn)、制藥、空氣分離、半導(dǎo)體行業(yè)等需要防爆場合的氧濃度在線實(shí)時(shí)分析。
氧分析系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
|
測量原理 |
燃料電池 |
|
顯示方式 |
128×64點(diǎn)陣LCD |
|
測量范圍 |
0 ~ 5/10/25.00% O2，（可選不同量程：微量或常量） |
|
測量精度 |
＜±1%FS |
|
重 復(fù) 性 |
≤±1% |
|
響應(yīng)時(shí)間 |
T90≤60S |
|
模擬輸出 |
4~20mA.DC（非隔離輸出，負(fù)載電阻小于500歐姆），2路可編程干觸點(diǎn)型無源報(bào)警輸出，觸點(diǎn)*大容量220VAC/2A |
|
供電電源 |
DC24V/0.5A |
|
樣氣溫度 |
0 ~ 50℃ |
|
環(huán)境濕度 |
＜80%RH |
|
采樣方式 |
通入式 |
|
采樣管路 |
Φ6mm316L無縫不銹鋼管、PTFE管 |
|
樣氣流量 |
600 ~ 800mL/min |
|
樣氣組份 |
無強(qiáng)腐蝕性氣體，灰塵量小于1mg/Nm3 |
|
預(yù)處理級數(shù) |
Ⅰ級 |
|
工作壓力 |
90 ~ 110KPa，穩(wěn)壓氣氛（jue對壓力） |
|
規(guī)格尺寸 |
213mm×315mm×155mm（H×W×D） |
|
安裝孔尺寸 |
135mm×80mm（H×W） |
|
使用壽命 |
＞24月(正常使用條件下） |
|
安裝方式 |
壁掛式 |
|
防爆等級 |
Exd IIB T4 |
|
備注 |
以上技術(shù)參數(shù)是以常量氧為標(biāo)準(zhǔn)而寫，如若用于測量微量氧請聯(lián)系我司獲取相關(guān)技術(shù)參數(shù)?？筛鶕?jù)不同的現(xiàn)場需求配備不同量程的氧變送器，即微量氧系統(tǒng)和常量氧系統(tǒng)；可根據(jù)不同現(xiàn)場設(shè)計(jì)相對應(yīng)的采樣系統(tǒng)及正壓、微正壓、微負(fù)壓采樣系統(tǒng)。 |
免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考。可能由于更新不及時(shí)，會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
