磁控濺射鍍膜儀
        • 小型臺(tái)式單靶磁控濺射鍍... 桌面型石英腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SE...
        • 桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
        • 粉體磁控濺射包覆機(jī) 粉體磁控濺射包覆機(jī)是通過(guò)粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn),以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜,能快速出料。
        • 真空腔體 該真空腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種...
        • 三靶磁控濺射鍍膜儀   三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...
        • 單靶直流磁控濺射鍍膜儀 該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、...
        • 三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜...
        • 帶過(guò)渡艙三靶磁控濺射鍍... 本設(shè)備為三靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
        • 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍... 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
        • 三靶向上磁控濺射鍍膜儀 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬...
        • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛...
        • 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍... 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀,專(zhuān)用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體,配有帶擋板的觀察窗,可以觀察鍍膜過(guò)程,擋板則能有效...
        • 臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射... CY-VTC-3DC是專(zhuān)為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng),主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜...
        • 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用...
        • 單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,...
        • 帶過(guò)渡艙型雙靶磁控濺射... 本設(shè)備為雙靶磁濺射控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品...
        • 三英寸三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬...
        • 臺(tái)式射頻電源單靶磁控濺... 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備...
        • 桌面型下置靶不銹鋼腔體... 本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用...
        • 桌面型射頻磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為射頻磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品...

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